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光刻国际顶会，700余位业内人士齐聚深圳

在半导体产业的“微缩竞赛” 中，光刻技术始终是决定芯片性能天花板的关键。从微米级工艺到纳米级突破，从深紫外（DUV）到极紫外（EUV）的技术迭代，它不仅承载着摩尔定律演进的核心动力，更成为全球科技竞争与产业协同的战略焦点。如今，随着芯片应用向人工智能、新能源汽